Descripción de los productos
El horno de difusión de oxidación es un equipo de proceso clave para la producción de células fotovoltaicas. Mezcla y difunde pequeñas cantidades de boro, fósforo y otros elementos en la oblea de silicio a altas temperaturas para preparar uniones PN y compone circuitos integrados de ella. También se puede utilizar para preparar películas siox en la superficie de la oblea de silicio para proteger a las obleas.
Es común usar termopares que midan las partes internas y externas del horno para controlar la temperatura interna del horno de difusión que podría realizar el proceso de oxidación. Cada zona de temperatura especificada tiene un termopar externo e interno para asegurarse de que los resultados de la medida sean confiables. Los termopares internos se usan para medir la temperatura de la oblea, comúnmente tiene 3 ~ 9 puntos de medida, que representan la temperatura de la oblea con precisión. Los termopares externos se usan para detectar la superficie externa del tubo del horno, cada uno comúnmente tiene solo un par de cables, para dar una medida indirecta del horno. Por lo general, la temperatura del proceso de oxidación es más baja que el proceso de difusión, por lo tanto, se podría implementar el térmico BF multipunto principal de tipo K y N
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Parámetros técnicos |
Termocouple BF Multipoint principal |
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Adentro |
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Tipo |
K,N |
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Diámetro de alambre o mims |
φ2~4 |
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Temperatura de trabajo (grado) |
0~950 |
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Precisión (grado) |
± 1.5 o 0. 4%· t |
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Longitud del tubo protectora (mm) |
Menos de o igual a 4000 |
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Diámetro de tubo protector (mm) |
φ14~22 |
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Material de tubo protector |
310 o 321 |
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Estructura de extremo caliente |
Aislado |
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Número de puntos |
3 ~ 9 puntos |
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Terminación |
Conector pequeño |
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Cable de compensación |
Kx (nx) {{0}} × 0.5fpf |
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Características de la estructura |
Fácil de desmontar, T/C para cualquier punto se puede eliminar si es necesario |
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